脉冲激光沉积和热蒸发涂层- PLD
我们的骑士脉冲激光沉积系统与可选的热蒸发涂布器为材料研究科学家提供了一个高度灵活的工具，以生产各种格式的薄膜样品。它可以将复杂的材料和晶体结构沉积到衬底上，只需要很少的设置。脉冲激光沉积技术导致了高效、非热烧蚀，并保留了目标材料的化学计量特征。通过应用这种方法，可以沉积诸如氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和复合材料等材料。
与双泵系统组成的外部真空泵(包括)和直接附加TMP(涡轮分子泵)，该骑士脉冲激光沉积系统可实现微托范围内的真空，使极细晶粒薄膜应用于多种基材。在快速的循环时间内形成了具有优良细晶粒尺寸的均匀薄膜，适合于先进材料研究和高倍扫描电子显微镜。
的骑士系统配备了一个大室(直径300毫米)和三个(3)源支架与电动目标选择。激光源不包括在内，位于腔室的外部，并利用腔室窗口用于激光访问源目标。为了增加薄膜对基材的附着力和改善薄膜结构，可选的加热器允许基材加热到500°C。质量流量控制(MFC)气体输入允许精确的气体流量控制和腔室压力。
- 激光烧蚀沉积与目标机械手和可调速度
- 3种物质来源的蒸发i(可选PLD-T模型)
- 无限沉积时间，无需断开真空
- 蒸发源持有-船，篮子，线圈
- 500°C衬底加热器(可选)
- 电通入工艺室
- 两级，直接驱动旋转叶片粗加工泵
- 涡轮分子泵(90升/秒莱宝)
- 精密质量流量计(MFC)用于真空的精细控制
- 高精度石英晶体厚度监测仪(水冷)
- 直观的触摸屏控制涂装过程
- 用户友好的软件，可以通过网络更新
- 控制涂层速度，以实现更细的晶粒组织
- 手动或自动定时厚薄沉积
- 电子控制快门
- 气体净化和排气的电子控制
- 易于更换试样阶段(可选配旋转阶段)
- 2年工厂保修
触摸屏控制
所有的涂布机都配有7英寸触摸屏和全自动控制，即使没有经验的用户也可以轻松操作。真空、电流和沉积信息可在触摸屏上以数字数据或曲线的形式观察。历史页面还保存了最近300个涂层的信息。
热蒸发选项(船/篮/盘管)
的骑士脉冲激光沉积系统提供三个直径为20mm的可旋转光源。的PLD-T脉冲激光沉积系统的模型增加了热蒸发能力的持有人，如船，篮子，线圈从大多数传统的供应商。蒸发源保持器的设计使源材料之间不会相互污染。电源支架的长度可以在5o到90mm的范围内。定制的样品支架和源支架可以很容易地适应。
| 骑士 | PLD-T | |
|---|---|---|
| 真空 | 0.5 x E-6 Torr | 0.5 x E-6 Torr |
| 激光目标大小 | 25毫米(1) | 25毫米(1) |
| 数字或激光目标 | 3. | 3. |
| 源持有者 | N/A | 船,篮子,线圈 |
| 蒸发源数 | N/A | 3. |
| 支架的长度 | N/A | 50至90毫米 |
| 室的大小 | 300毫米 | 300毫米 |
| 电力供应 | (2) 25V DC, 0-100A | (2) 25V DC, 0-100A |
| 过程气体 | 基于“增大化现实”技术,O, N | 基于“增大化现实”技术,O, N |
| 旋转舞台 | 可选 | 可选 |
| 厚度监控 | 标准 | 标准 |
| 输入功率 | 110 v 1阶段 | 220 v 1阶段 |
| 涂布机尺寸(毫米) | 650 (W) x500 (D) x560 (H) | 650 (W) x500 (D) x560 (H) |
| 装船重量 | 60公斤 | 60公斤 |