CP-8000离子磨横断面抛光机

用于扫描电镜样品制备的CP-8000离子磨横截面抛光机使用氩气离子束从样品表面轻轻去除材料-字面上的原子一次。由此产生的原子级抛光不能再好了。离子磨横截面抛光机用于对较硬的材料或对生物和其他软材料进行切片或冻裂的最后一步机械抛光后使用。

典型的应用包括半导体和电子元件的临界横截面分析,如Via,焊点,层结合和分层检查,以及其他传统机械研磨和抛光容易在硬到软界面中变形或涂抹较软层的情况。

横截面离子铣削也可以用于粉末的精细切片,以看到粉末的内部结构,在制药和其他材料科学应用。

CP-8000使用简单,比市场上的传统产品更便宜。欧宝娱乐app下载7英寸液晶触摸屏控制面板允许存储多种“食谱”,不同类型的样品准备。它也使操作简单和直接。CP-8000横断面抛光机的维护对用户来说是简单方便的。

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硬件

CP-8000横断面抛光机规格:

  1. 氩离子磨- 500μm束直径
  2. 离子束能量:2kV ~ 8kV
  3. 铣削速度150μm/hr (Si在5kV)
  4. 最大试样尺寸:20(宽)x 12(深)x 7(高)毫米
  5. 触摸屏控制和显示
  6. CCD摄像机在铣削过程中观察样品
  7. 光束通过荧光屏对准
  8. 包括涡轮分子真空泵
  9. 包括粗制真空泵
  10. 工作压力:0.0002托
  11. 590毫米(宽)x 440毫米(深)x 260毫米(高)
力量XFlash EDS

离子抛光样品的示例图像

纳米涂层粉末在5000倍和30000倍(BSE):

纳米粒子离子磨横截面
纳米粒子离子碾磨截面

2000 x和5000 x (SE)的多层材料:

离子研磨多层截面
离子研磨多层截面
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