为什么真空镀膜?
非导电样品往往由于电子在样品表面聚集而产生充电效应，从而导致SEM成像问题。虽然许多SEM系统有一个“低真空”或“电荷减少”模式可以克服这个问题，但该模式通常有局限性，在放大和图像质量取决于样品。在“低真空”模式下收集的图像通常有一个平坦的对比，导致图像不吸引人。
为了获得最好的成像效果，非导电样品通常使用溅射涂布器涂上一层纳米薄的导电金属。即使是导电的样品也可以从溅射涂层的高电子发射材料，如金，铂或金/钯。这种涂层可以在更高的光束能量下成像，获得最高的分辨率和放大倍率，而不必担心电子电荷效应或光束对敏感样品的损伤。
涂层样品仍然可以进行EDS分析，因为大多数EDS软件允许对涂层金属进行定义，所以在分析过程中可以忽略它。选择样品中不存在的金属涂层类型。另外，为了进行最精确的EDS分析，可以使用碳涂布机来制作x射线透明导电涂层。碳涂层在树脂贴装抛光样品和载玻片贴装抛光薄片的矿物学分析中非常流行。
我们提供多种选择的样品涂层金属，碳或两者。经济SPT-20涂布机是一种理想的入门级涂布机，最适合平面样品。更高级的桌子上系列涂布机有低真空和高真空两种型号。由于真空水平对得到的晶粒尺寸有影响，高真空镀膜机大多只使用场发射或FE-SEM和TEM，它们产生的图像往往在100,000倍以上，有观察镀层晶粒伪影的潜力。高真空镀膜也建议当涂层氧化金属，如铬和其他一些。
为了进一步了解样品制备和溅射涂层，我们建议使用Echlin的SEM和EDS样品制备手册”。这本书的在线版本也可以买到在这里。
热蒸发
我们提供多种选择，以应用薄膜样品使用热蒸发或溅射或组合。溅射涂层使用纯金属的“目标”，而热蒸发器可以有多个源，允许它在产生的薄膜中创建不同金属的合金。同样地，通过镀膜器控制面板，可以根据镀膜器配置使用蒸发或溅射进行顺序镀膜。
热蒸发是一种物理气相沉积(PVD)的方法，通常使用电阻热源在真空环境中蒸发固体材料形成薄膜。涂层材料通常包含在一个“船”，“篮子”或“卷”材料能够承受比蒸发材料更高的温度。应用热蒸发技术的材料可以是纯原子元素，包括金属和非金属，也可以是分子，如氧化物和氮化物。该材料在高真空室中加热，直到产生蒸汽压力，允许蒸发的材料穿越真空室并涂覆基板
要进一步阅读关于热蒸发沉积薄膜和涂层的文章，可以在这里找到一个很好的已发表作品的总结科学指引。