桌面热蒸发涂布机- DTT
我们的德勤桌面热蒸发涂布机为材料研究科学家提供了一种高度灵活的工具，用于生产各种格式的薄膜标本与三源热蒸发使用各种持有人(船，篮子，线圈)的涂层材料。
与双泵系统组成的外部真空泵(包括)和直接附加TMP(涡轮分子泵)，该德勤热蒸发器可以在微托范围内实现真空，允许非常细的颗粒薄膜应用于多种基材。具有优良细晶粒尺寸的均匀薄膜沉积在一个快速的循环时间内形成，适合于先进材料研究和高倍扫描电子显微镜。
的德勤系统配有一个大的腔室(直径300mm)和多种腔室高度选项(250至500mm)。三(3)蒸发源持有人允许或顺序涂层或同时涂层合金材料。为了增加薄膜对基材的附着力和改善薄膜结构，可选的加热器允许基材加热到500°C。衬底冷却也是可选的。蒸发涂层通常非常均匀，可选择旋转基板或样品支架。质量流量控制(MFC)气体输入允许精确的气体流量控制和腔室压力。
-
金属和介质薄膜
纳米与微电子学
光学组件涂层
薄膜传感器的制造
医疗组件
磁设备
- 在一个紧凑的系统中，3种物质的热蒸发过程
- 无限沉积时间，无需断开真空
- 连续涂层或同时共蒸发合金化(可选)
- 蒸发源持有-船，篮子，线圈
- 500°C衬底加热器(可选)
- 水冷电通入工艺室
- 两级直驱旋叶粗加工泵(选配无油泵)
- 莱宝(可选250和350 L/sec TMP)
- 精密质量流量计(MFC)用于真空的精细控制
- 高精度石英晶体厚度监测仪(水冷)
- 底物冷却(可选)
- 直观的触摸屏控制涂装过程
- 用户友好的软件，可以通过网络更新
- 控制涂层速度，以实现更细的晶粒组织
- 手动或自动定时厚薄沉积
- 电子控制快门
- 气体净化和排气的电子控制
- 易于更换试样阶段(可选配旋转阶段)
- 2年工厂保修
触摸屏控制
所有的涂布机都配有7英寸触摸屏和全自动控制，即使没有经验的用户也可以轻松操作。真空、电流和沉积信息可在触摸屏上以数字数据或曲线的形式观察。历史页面还保存了最近300个涂层的信息。
热蒸发源(船/篮/盘管)
DTT桌面热蒸发涂布机可根据用户要求配置传统供应商提供的不同的源支架，如船状、篮状、盘状等。蒸发源保持器的设计使源材料之间不会相互污染。电源支架的长度可以在5o到100mm的范围内。定制的样品支架和源支架可以很容易地适应。
样品或衬底支架
所述DTT桌面热蒸发涂布机设有标准衬底支架，该支架带有用于矩形和圆形涂层的掩模。带有“掩模”的定制基板支架制作简单，也可以以可选的附加成本提供。样品支架通常用于扫描电镜，如来自MicroToNano可以很容易地适应于基材和样品的重复固定。
| 德勤 | |
|---|---|
| 真空(90升/秒TMP) | 0.5 x E-6 Torr |
| 真空(350升/秒TMP) | 0.5 x E-7 Torr |
| 前泵的选择 | RVP(标准)，隔膜，涡旋 |
| 源持有者 | 船,篮子,线圈 |
| 数量的来源 | 3. |
| 支架的长度 | 50至100毫米 |
| 室大小(标准) | 300mm深x 250mm高 |
| 室高度(可选) | 最高可达500mm H |
| 电力供应 | 25 v直流,0 - 100 a |
| 电源选项 | 多个(co-evaporation) 0 - 150 a |
| 过程气体 | 基于“增大化现实”技术,O, N |
| 水的冷却 | 电源馈进(衬底-可选) |
| 旋转舞台 | 可选 |
| 衬底加热 | 到500°C |
| 厚度监控 | 标准 |
| 输入功率 | 220V 1相20A |
| 涂布机尺寸(毫米) | 650 (W) x500 (D) x560 (H) |
| 装船重量 | 60公斤 |