为什么真空镀膜?
不导电的样品通常会由于样品表面的电子聚集而产生充电效应，从而导致SEM成像问题。虽然许多SEM系统有“低真空”或“电荷减少”模式，可以克服这个问题，但该模式通常有放大和图像质量的局限性，这是依赖于样品。在“低真空”模式下收集的图像通常有一个平坦的对比度，导致图像不吸引人。
为了获得最佳成像效果，通常使用溅射镀膜器对非导电样品进行镀膜，该镀膜器应用了纳米薄导电金属层。即使是导电的样品也能从溅射镀膜的高电子发射材料(如金、铂或金/钯)中受益。这种涂层允许在更高的束流能量下成像，以获得最高的分辨率和放大倍数，而无需考虑电子电荷效应或对敏感样品的束流损伤。
EDS分析仍然可以在涂层样品上进行，因为大多数EDS软件允许定义涂层金属，所以在分析时忽略它。选择样品中不存在的金属涂层类型。另外，对于最精确的EDS分析，碳涂布机可以用来产生x射线透明导电涂层。碳涂层在树脂镶嵌抛光样品和玻片镶嵌抛光薄片的矿物学分析中很流行。
我们提供多种选择的样品涂层金属，碳或两者。经济SPT-20涂布机是一种理想的入门级涂布机，最适合平面样品。更高级的桌子上系列镀膜机有低真空和高真空两种型号。由于真空水平在最终的晶粒尺寸中起着作用，高真空镀膜机大多只使用场发射或FE-SEM和TEM，产生的图像往往超过10万倍放大，存在观察涂层晶粒伪影的潜力。在镀铬等氧化金属时，也建议采用高真空镀膜。
为了进一步阅读样品制备和溅射涂层，我们建议Echlin 'sSEM和EDS样品制备手册”。这本书的在线版本也可以买到在这里．
热蒸发
我们提供多种选择，将薄膜应用到样品使用热蒸发或溅射或组合。当溅射涂层使用纯金属的“目标”时，热蒸发器可以有多个来源，允许它在产生的薄膜中生成不同金属的合金。同样，通过镀膜器控制面板，根据镀膜器的配置，可以使用蒸发或溅射进行连续镀膜。
热蒸发是物理气相沉积(PVD)的一种方法，通常使用电阻热源在真空环境中蒸发固体材料形成薄膜。涂层材料通常包含在一个“船”，“篮子”或“线圈”的材料能够承受比蒸发材料更高的温度。应用热蒸发技术的材料可以是纯原子元素，包括金属和非金属，也可以是分子，如氧化物和氮化物。材料在高真空室中加热，直到产生蒸汽压，使蒸发的材料穿过真空室并覆盖基板
想要进一步阅读关于薄膜和涂层的热蒸发沉积的详细资料，请点击科学指引．